Qcept與CEA-Leti合作共同發展非光學可視性缺陷檢測技術與先進半導體製程

【台灣，台北，2008年6月16日】半導體製造業新型晶圓檢測系統開發商Qcept（Qcept Technologies Inc.），日前宣布和全球先進微米與奈米科技的頂尖研究機構CEA-Leti達成一項合作協議。Qcept將與CEA-Leti合作，讓Qcept的領導優勢延伸至現有各種非光學可視性缺陷（NVD）檢測應用，以及研究各種潛在新技術，藉以分析各種先進半導體材料與製程的特性。這些材料與製程包括高介電常數與低介電常數材料、原子層沉積（ALD）、完全矽化（FUSI）金屬閘極，以及先進的清洗技術。

在協議的規範下，CEA-Leti提供在先進半導體製程開發方面豐富的專業知識，Qcept則已將其ChemetriQ® 非光學可視性缺陷晶圓檢測技術，裝設於CEA-Leti位於法國格勒諾伯的研發中心，強化其現有製程特性分析的能力。

CEA-Leti首席研發工程師Adrien Danel表示：「各種先進材料與製程，包括高介電常數材料與金屬閘極，都有潛能大幅提升未來世代半導體元件的效能，但其衍生的複雜性可能造成許多過去未遭遇的特殊良率問題，需要創新的檢測方法才能解決。與Qcept之間的合作，能幫我們更加瞭解這些材料與製程的各種良率問題，藉以加快開發流程，並整合至整個製程。」

Qcept公司行銷副總裁Ralph Spicer表示：「CEA-Leti在許多半導體研發的關鍵領域中扮演先鋒角色。與CEA-Leti合作，讓我們有特別的機會，及早接觸到這些先進技術，讓我們針對業界某些尖端應用來證明我們的ChemetriQ解決方案。」

Qcept的ChemetriQ 平台提供整片晶圓的快速線上NVDs偵測，包括有機與無機殘餘物、金屬污染、製程導致的電荷、水漬，以及其他無法以光學檢測系統檢測的非光學可視性缺陷。ChemetriQ平台透過一種創新且非破壞性的技術，檢測半導體晶圓表面功函數的變化量 (work function variation)。ChemetriQ平台的敏銳度高達5E9 atoms/cm2 (每平方公分上5E9 atoms或二十萬個原子分之一)，超越國際半導體技術準則（ITRS）針對22奈米技術所規範的金屬感染物標準。

關於CEA-Leti

CEA（法國原子能委員會）為公家技術研究機構，其任務涵蓋能源、資訊、醫療科技、國防等領域，奠基於最高水準的基礎科學研究。旗下15000位研究人員與合作人員為其核心優勢，讓CEA得到國際肯定，研究成果被法國與歐洲各地的公家機關、機構以及產業界廣泛採納。

位於法國格勒諾伯的CEA-Leti（法國原子能委員會與資訊科技實驗室）是歐洲首屈一指的研究機構，研究範圍涵蓋微電子、微型科技以及奈米技術。該機構雇用將近1000位人員，每年獲得將近200項專利。該機構共衍生出28家新創與即將創立的公司，是產業界最重要的合作夥伴之一。帶動MINATEC®創新研發的CEA-Leti，為其主要合作夥伴之一，其他成員還有INP Grenoble (法國格勒諾博國立綜合科技大學) 和當地多個機構。欲得知詳細資訊請瀏覽www.cea.fr.

關於 Qcept Technologies Inc.

Qcept專為先進半導體製造提供非光學可視性缺陷（NVD）晶圓檢測解決方案，其ChemetriQ®平台被廣泛應用於線上、非接觸性、全面晶圓檢測等關鍵製程上，例如次單層（sub-mono-layer）有機與金屬殘留物、製程導致的電荷，以及其他無法被傳統光學測試儀器探測出且不應有的表面不均勻等NVDs。如欲了解更多相關資訊，請瀏覽官方網站：www.qceptech.com。