Molecular Imprints 獲提供先進光刻機和薄片圖案形成服務的合約

德克薩斯州奧斯丁2011年11月18日電 /美通社亞洲/ — 奈米圖案系統和解決方案的市場和技術領先商 Molecular Imprints, Inc. 今天宣佈，該公司已從一家領先的 IC 製造商處獲得了一份合約，打造行業首個 450毫米 光刻系統。 此次購買包括一項多年期薄片圖案形成服務合約以及其它450毫米奈米壓印系統的選擇權。Molecular Imprints 的專有 Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) 技術以及優質 壓印掩膜 的商業推出是選擇該公司作為行業向450毫米晶圓過渡中堅力量的決定因素。

Molecular Imprints 總裁兼首席執行官 Mark Melliar-Smith 表示：“半導體設備和製造商供應鏈必須及早獲得完全圖案化的優質450毫米晶圓，及時開發和優化其產品和工藝，以實現過渡。除了更大的基板尺寸之外，晶圓上日益增加的小設備功能必須能夠一直應用到未來，用作原始設備製造商和工藝開發工具。我們的 J-FIL™ 技術是現在唯一的光刻解決方案，可滿足行業向450毫米過渡的廣泛需求。我們期待利用我們的能力在所要求的設計規則下及時實現向450毫米的過渡。”

鑒於193i 光刻技術已被強制採用複雜的複式圖案制程來製作如今的半導體，極遠紫外光刻 (EUV) 又不知何時可以啟用，MII 的 J-FIL 技術被用於啟動向450毫米的過渡就不足為奇了。J-FIL 已展示了刻線邊緣粗糙度 (<2nm LER, 3 sigma) 和臨界尺寸均勻性 (1.2nm CDU, 3 sigma) 不同尋常的24奈米圖案結構，可擴展至小於18奈米，使用簡單的單一圖案工藝。J-FIL 通過避免高耗電 x 射線光源、複雜的光學透鏡和鏡子以及尚未開發的超靈敏光致抗蝕劑實現的內在擁有成本優勢使其非常符合450毫米計畫重要的生產力目標。

作為該450毫米合約的一部分，Molecular Imprints 將于明年下半年開始提供光刻系統和後來的晶圓服務。五年期晶圓服務合約需要向 G450C 聯盟提供數千個完全圖案化的450毫米晶圓，並可選擇按需購買其它 J-FIL 壓印系統。

Molecular Imprints, Inc. 簡介

Molecular Imprints, Inc. (MII) 是半導體和硬碟 (HDD) 行業高解析度及低擁有成本奈米圖案系統和解決方案的技術領先商。MII 將利用其擁有 IntelliJet™ 材料應用的創新 Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) 技術成為儲存和快閃記憶體設備高量圖案形成解決方案的全球市場和技術領先商，同時推動新興市場的顯示器、清潔能源、生物技術等行業。MII 通過提供價格適中、相容且可擴展至小於10奈米解析度水準的全方位奈米圖案解決方案促進奈米刻度圖案的形成。諮詢詳情或在 twitter 上參閱該公司，請參訪： www.molecularimprints.com 。