分子壓印公司向大日本印刷有限公司發送半導體行業第一套納米掩模複製系統

得克薩斯州奧斯汀2011年1月19日電 /美通社亞洲/ — 納米壓印光刻 (http://www.molecularimprints.com/technology/overview.php) 系統和解决方案市場及技術領先供應商 — 分子壓印公司 (Molecular Imprints, Inc., http://www.molecularimprints.com,以下簡稱 MII) 今日宣布，推出新一代噴射及閃光 (Jet and Flash™) 壓印光刻 (http://www.molecularimprints.com/technology/j_fil_overview.php)(J-FIL™) 壓印掩模複製平臺 Perfecta™ MR5000 (http://www.molecularimprints.com/products/mask_replication.php)。作為業內第一套專門設計用於複製6025型壓印掩模的納米製圖系統，Perfecta™ MR5000 系統能夠從單一的電子束掩模中製造多個相同複製掩模，大大降低掩模成本。降低掩模成本是降低高級非易失性內存結構中壓印使用費用的主要方法。

MII 同時很高興地宣布，半導體行業領先的掩模供應商 — 大日本印刷公司 (Dai Nippon Printing Co., Ltd.，http://www.dnp.co.jp/eng/index.html，DNP) 已經接收第一批 MR5000 系統，並加強了雙方緊密且持續的合作，以便在半導體行業中推進納米壓印掩模向2X納米這一級別及其後續級別發展。

「一種可行的低成本製圖技術將會使下一代固態存儲器的生產過程更加高效，特別是由於在諸如 3D 存儲設備等先進的存儲設備中出現了光刻密集型架構。」 MII 首席執行官 (CEO) 馬克.梅裏亞-史密斯 (Mark Melliar-Smith, http://www.molecularimprints.com/about/executive_team.php) 表示，「半導體制造商已經在其生產方案中利用我們的 J-FIL™ 高保真製圖技術。Perfecta™ MR5000 所提供的先進的高質量的壓印掩模技術使納米壓印製造中關鍵基礎組成部分的生產成為可能。」

DNP 電子設備運營總經理土屋純一 (Jun-Ichi Tsuchiya) 表示：「我們此次採購 Perfecta™ MR5000 系統反映了 DNP 一貫的技術領先地位和以先進的光掩模方案為市場服務的宗旨。我們將使用這個系統開發模板複製技術，以便在2011年為我們的納米壓印光刻客戶和合作夥伴提供複製產品。」

Perfecta™ MR5000 系統代表了納米製圖技術領域的一項重大進步。該系統採用了領先的電子束技術6025型「大師級」掩模，能完美地將圖形轉移到6025型複製品上，而這種複製品能被製造晶圓壓印光刻系統識別。配備了公司增強型智能噴射 (IntelliJet™) 降式圖形發生器，Perfecta™ MR5000 系統可產生映射到局部範圍密度的秒米抗蝕液滴，使2X納米級的圖形高保真轉印中剩餘圖層厚度 (Residual Layer Thickness, RLT) 達到高度的一致，從而真正做到無需廢料抗蝕處理。通過從單一「大師級」掩模中生產多張複製掩模，可以顯著降低掩模生產成本，並使光刻加工的總成本降低。

「我們的客戶和行業夥伴將納米壓印技術視為日益昂貴和複雜的光刻成像技術的替代品，不斷加大在這方面的投資。」梅裏亞-史密斯補充說道，「我們繼續保持增長的勢頭，而 Perfecta™ MR5000 系統作為半導體存儲器製造解决方案的應用納米壓印和 IntelliJet™技術，是向前邁進的關鍵一步。」

MII 簡介

MII 是行業內領先的提供高分辨率、低成本納米壓印光刻系統產品的公司。MII 正憑藉自身的創新性產品 J-FIL™ 和 IntelliJet™ 材料應用技術，發展成為存儲設備批量製圖解决方案的世界市場和技術領先業者，並涉足清潔能源、生物技術和其他領域。 MII 通過提供全面的納米製圖解决方案來實現納米級的製圖，該解决方案價格合理、兼容性強，且可擴展至亞10納米級別分辨率。

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