美國馬里蘭州愛克頓2012年7月16日電/美通社亞洲/ — WL Gore & Associates和CT Associates發佈了一份白皮書，介紹一種新的測量方法，能夠測量半導體行業用超純水中小於50nm的顆粒，並通過超濾(UF)和微濾(MF)的組合去除最小至12nm的顆粒。
半導體廠商們需要知道的是，他們的 UPW 系統能夠生產不含微小顆粒的水，這些小顆粒能夠導致良率問題。當他們的線寬更小時，這種嚴格的顆粒尺寸可以小到10nm或更小。當前的顆粒計數儀不能測量這麼小的顆粒，但是半導體廠商需要知道的是，他們的UPW系統所採用的過濾策略要有能力捕獲這麼小的顆粒。
目前已經開發出的顆粒檢測技術能夠讓過濾芯廠商在實驗室的環境下測量這種小顆粒的過濾效率。這種技術在於將UPW蒸發變成氣態霧狀的創新方法。即讓來自UPW 的顆粒保持氣相，進而使其能通過常規氣態顆粒檢測儀精確測定顆粒的尺寸和數量。
這種方法今天已經廣泛用來評估大多數UPW系統所採用的超濾模組的過濾性能。該測試顯示，儘管這些超濾模組具有很高的過濾精度，但一些極小的顆粒仍能穿透過過濾芯，從而給半導體廠商帶來風險。該測試方法還進一步顯示，一種過濾精度極高的微濾(MF)過濾芯能夠截留大部分的微小顆粒。最終，驗證了同時採用超濾模組(UF)和高精度微濾(MF)過濾芯的過濾系統對小至12nm的顆粒展現了卓越的過濾效果。
最新的白皮書「超濾和微濾相結合能夠去除UPW中12nm的顆粒」，由CT Associates, Inc. 的Donald C Grant和Dennis Chilcote 以及WL Gore and Associates, Inc. 的Uwe Beuscher共同撰寫，可上網閱讀www.ultrapurewater.com 上ULTRAPURE WATER® Journal 的5/6月刊。它還將在11月13-14日亞利桑那州鳳凰城的「超純水-微會議」上演示。會議的具體資訊請見 http://www.ultrapurewater.com/Conferences/Phoenix.HTM